Mikro- og nanoteknologi:

God stemning og kake på lunsjrommet i NTNU Nanolab da den nye tynnfilm- og etselinjen ble åpnet.

Åpnet ny tynnfilmlinje på NTNU Nanolab

NTNU NanoLabs tynnfilmområde er nå oppgradert med investeringer i etsing og tynnfilmdeponering for over 40 millioner kroner.

Publisert Sist oppdatert
NTNU-rektor Tor Grande klippet snoren for det oppgraderte tynnfilm- og tørretseanlegget ved NTNU Nanolab.

Det vanket både kake og bobler da rektor Tor Grande klippet snoren for det oppgraderte tynnfilm- og tørretseanlegget ved NTNU Nanolab.

Anlegget inngår i den norske infrastrukturen for mikro- og nanofabrikasjon, Norfab, og er blitt oppgradert for over 40 millioner kroner. Foruten egne midler, har NTNU fått betydelig støtte fra Forskningsrådet til opprustingen.

– Investeringene representerer state of the art innen teknologi, og vil sikre kritisk kapasitet for de neste 15 årene, sa dekan Øyvind Weiby Gregersen ved Fakultet for naturvitenskap, NTNU, i forkant av snorklippingen. – Det er et stort arbeide som er lagt ned over lang tid, fremholdt Gregersen, og pekte på innsatsen til Norfab/Nanolab-direktør Peter Köllensperger og hans kolleger fra NTNU, Sintef og andre universiteter, og ikke minst leverandøren SPTS.

Ifølge Peter Köllensperger har man nå lage strukturer som ikke var mulige før, noe som åpner muligheter for både forskning og industriprosjekter. – Vi er svært opptatt av å invitere industrien til å se hva vi kan gjøre, understreker han overfor Elektronikk.

Etter 13 år med investeringer, tilbyr NTNU NanoLab i dag flere muligheter for banebrytende FoU enn noen gang før, og er gunstig plassert for å støtte de betydelige strategiske investeringene som gjøres i Europa innenfor områdene chips, avanserte materialer og sikkerhet og forsvar.

De nye utstyret omfatter blant annet:

To reaktive ionetsere for klor- og fluorkjemier

Prof. Henri Jansen, DTU.

En dyp-reaktiv ionetser for høyaspektstrukturer

Et plasmaforsterket kjemisk avsetningssystem

En hydrogen-flourid dampetser som skal tillate tryggere arbeidsforhold for høyt selektive etseprosesser

I forbindelse med åpningen ble det også holdt et miniseminar der hovedinnlegget ble holdt av professor Henri Jansen fra danske DTU Nanolab, som med stor innlevelse presenterte utviklingen av ulike tørretse- og 3D-struktureringsprosesser for nanostrukturer.

 

Det kommer mer stoff fra NTNU Nanolab i nærmeste fremtid!

Powered by Labrador CMS