Imec har i samarbeid med Cadence gjort tapeout av 5nm silisiumkretser. (Illustrasjonsfoto)

Viste 5 nm testbrikke

Det belgiske forskningssenteret Imec har gjort den første tapeout av en testbrikke med utrolige 5 nanometer lederbredder.

Publisert Sist oppdatert

Denne artikkelen er 2 år eller eldre

Nanoelektronikksenteret Imec melder at de har fullført prøveproduksjon av den første testbrikken, en såkalt tapeout, med 5 nanometer (nm) lederbredder, ved hjelp av ekstrem ultrafiolett (EUV) litografi samt ”193 immersjon-” (193i) litografi.

Med seg på laget hadde Imec EDA-verktøyleverandøren Cadence. For å produsere denne testbrikken jobbet Imec og Cadence sammen for å optimalisere designregler, bibliotek og plasserings- og rutingsteknologi for å oppnå optimal effekt, ytelse og areal- (PPA) skalering via Cadence’ Innovus Implementation System.

Gjennom å bruke et prosessordesign klarte de to selskapene å produsere en liten serie brikker ved hjelp av EUV litografi, og en teknikk kalt Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) for 193i litografi, der metallavstandene (pitch) ble skalert ned fra nominell 32nm pitch og ned til 24nm, for å kunne flytte på grensene for mønstergenerering.
– Dette samarbeidet spiller en viktig rolle i utviklingen av verdens nye, avanserte geometrier, inkludert 5 nm og videre, kommenterer An Steegen, prosessdirektør ved Imec.

Powered by Labrador CMS